學過初中物理的人都知道，不管什么物體都是由一個一個的分子組成的，然而，分子又是由離子組成的，在宇宙世界里面，多數物體還沒在變成分子，甚至99%的東西都是以離子或者能量的形式存在。平時有紀錄片里面看到的各種星云團，實際上主要組成物質都是離子、暗能量、暗物質這些東西。

　　當然在平時的生活中，平時眼睛看的到的物質只有3種形態，固態、液態和氣態。當然如果借助各種儀器，就可以看到物質其實還有很多種形態，比如離子。

　　等離子清洗機分為真空和非真空兩種類型，非真空就是大氣壓，或者常壓等離子清洗機，非真空的等離子清洗機，主要用來清洗平面的物體，像手機玻璃蓋板，或者一些小范圍的清洗。

　　等離子清洗機為什么需要引入真空環境，原因有很多,不過簡單的來講主要有有兩個原因:

　　引入真空室的氣體在壓力環境下不會電離,在充入氣體電離產生等離子體之前必須達到真空環境。另外，真空環境允許我們控制真空室中氣體種類，控制真空室中氣體種類對等離子處理體過程的可重復性是至關重要的。

　　要進行等離子處理產品,首先我們產生等離子體。首先，單一氣體或者混合氣體被引入密封的低壓真空等離子體室。隨后這些氣體被兩個電極板之間產生的射頻(RF)激活，這些氣體中被激活的離子加速，開始震動。這種振動“用力擦洗”需要清洗材料表面的污染物。

　　在處理過程中,等離子體中被激活的分子和原子會發出紫外光，從而產生等離子體輝光。溫度控制系統常用于控制刻蝕速率。60-9d攝氏度溫度之間刻蝕，是室溫刻蝕速度的四倍。對溫度敏感的部件或組件,等離子體蝕刻溫度可以控制在15攝氏度。我們所有的溫度控制系統已經預編程并集成到等離子體系統的軟件中間。設置保存每個等離子處理的程序能輕松復制處理過程。

　　可以通過向等離子體室中引入不同氣體，改變處理過程。常用的等離子處理器體包括02、N2,Ar,H2和CF4。世界各地的大多數實驗室，基本上都使用這五種氣體單獨或者混合使用，進行等離子體處理。

　　等離子體處理過程通常需要大約兩到十分鐘。當等離子體處理過程完成時,真空泵去除等離子室中的污染物，室里面的材料是清潔,消過毒的,可以進行粘接或下一步程序。

　　等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場合下形成的物質。等離子清洗/刻蝕形成等離子體的裝置是在密封容器中設定2個電極形成電磁場，用真空泵實現一定的真空度，隨之氣體愈來愈稀薄，分子間距跟分子或離子的自由運作距離也愈來愈長，受磁場的作用，發生碰撞而構成等離子體，與此同時會發生輝光。等離子體在電磁場內的空間運作，并轟擊被處置物體的表面，進而做到表層處理、清理和刻蝕的實際效果。